科研型真空式等離子處理設備主要為科研實驗室、產品研發等過程中的驗證型設備，設備應用了高真空下輝光放電原理，在高頻的電場下，使得特殊的氣體充能電離，形成密布均勻的等離子體，與待處理材料的表面發生物理性及化學性的綜合反應，得到我們所需要的表面效果狀態科研型真空等離子處理設備主要有以下特點

1、采用超高頻、全自動阻抗放電匹配系統的優質等離子發生源，為等離子體的形成及穩定提高可靠的環境高效的能量;

2、工業 PLC 及觸摸屏聯合控制系統,搭配各種傳感器及信號互聯電氣元件，實現了一鍵式全自動處理系統，高精度控制設備運行的全過程細節和參數;

3、多路氣體通道的高精度氣體質量流量控制器可以實現各種特種氣體的定量輸入，為科研實驗過程的數據嚴謹性提供有效保障;

4、等離子處理設備為自主研發設計，可以根據客戶的實際需求及產品的特殊性能進行匹配性的定制設計，包括設備外形、腔體材質及尺寸、腔體形征、電源種類、控制形式等，提升設備應用范圍和使用功效

5、小型真空式等離子處理設備可以實現材料表面的去膠刻蝕、清潔活化、改性、退膜、涂層、金屬還原等效果，滿足產品研發制造過程中的各類表面特性研究和工藝優化提升。

1、科研實驗室材料表面的改性:如礦物質表面微量氧化層的處理，石墨粉表面的親水性提升，復合高分子材料(PP、PA、PE、ABS、PTFE等)的表面處理，提升表面粘接力。

2、晶圓光刻膠的去膠刻蝕

3、金屬等材料表面的還原和氧化性反應實驗。

4、醫療材料的表面親水性提升，增強表面涂層結合力。

5、其他各類材料表面的特性改變及附著力提升等應用。